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龍巖億豐機(jī)械科技有限公司

產(chǎn)品與服務(wù)


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  • YFLM系列立磨.jpg

YFLM系列立磨

YFLM系列超細(xì)立式磨主要由電動(dòng)機(jī)、減速機(jī)、磨輥裝置、磨盤裝置、加壓裝置、選粉機(jī)、機(jī)體和油站等組成。它的橫空出世使得一次性完成超細(xì)粉的粉磨、分級(jí)和輸送作業(yè)的設(shè)想現(xiàn)實(shí)化,其工藝參數(shù)、機(jī)械性能和成品粉品質(zhì)等技術(shù)指標(biāo)均與臺(tái)灣水平相當(dāng)。

所屬分類:

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機(jī)械

進(jìn)料粒度:

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產(chǎn)品描述

工作原理:
  由立磨主電機(jī)通過(guò)減速機(jī)傳動(dòng)帶動(dòng)磨內(nèi)的磨盤旋轉(zhuǎn), 磨輥在磨盤的摩擦作用下圍繞著磨輥?zhàn)赞D(zhuǎn),物料通過(guò)星形喂料閥,一段、二段進(jìn)料螺旋機(jī)由進(jìn)料口落入磨盤中央后,受離心力的作用向磨盤邊沿移動(dòng),經(jīng)過(guò)碾磨軌道時(shí),被嚙入磨輥與磨盤間碾壓粉碎。磨輥相對(duì)物料及磨盤的粉碎壓力是由液壓缸的拉伸裝置提供。物料在粉碎過(guò)程中,同時(shí)受到磨盤的壓力和磨盤與磨輥間運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生的剪切力作用。物料被擠壓后,在磨床軌道上形成料床,而料床物料顆粒之間的相互擠壓和摩擦又引起棱角和邊緣的剝落,起到了進(jìn)一步粉碎的作用。粉磨后的物料繼續(xù)向盤邊沿運(yùn)動(dòng),直到溢出盤外。磨輥的邊上設(shè)計(jì)有特殊結(jié)構(gòu)的犁刀,可以不斷地將物料導(dǎo)入磨輥下擠壓。磨盤的周邊設(shè)有引風(fēng)環(huán),來(lái)自高壓風(fēng)機(jī)的氣流由引風(fēng)環(huán)自下而上高速帶起溢出的物料上升,進(jìn)入頂部的分級(jí)機(jī)進(jìn)行粗細(xì)分級(jí),粗粉重新返回磨盤再粉磨,符合細(xì)度要求的細(xì)粉作為成品,隨著氣流帶向機(jī)殼上部出口進(jìn)入除塵器被收集下來(lái),由氣力輸送系統(tǒng)送入成品倉(cāng)后可以包裝出庫(kù)。引風(fēng)環(huán)處上升的氣流也允許物料中比重較大的顆粒落入引風(fēng)環(huán)下面,從磨機(jī)下部的排渣口排出,由回料皮帶送回進(jìn)料系統(tǒng)重新進(jìn)入磨機(jī)。

工藝流程圖:
YFLM系列立磨

性能與優(yōu)勢(shì):


1.運(yùn)行成本低
(1)用磨輥在磨盤上直接碾壓磨碎物料,能耗低,和球磨相比節(jié)約能耗30%~40%。
(2)由于工作中磨輥并不與磨盤直接接觸,且磨輥與襯板采用優(yōu)質(zhì)材料制作,因此使用壽命長(zhǎng),磨損少。

2.設(shè)備環(huán)保
立式輥磨在工作中磨輥和磨盤不直接接觸,沒(méi)有球磨機(jī)金屬撞擊聲,震動(dòng)小,噪音低,比球磨機(jī)低20-25分貝。立式輥磨采用全密封系統(tǒng),系統(tǒng)在負(fù)壓下操作,無(wú)揚(yáng)塵,環(huán)境清潔。

3.操作簡(jiǎn)便 運(yùn)行可靠
(1)備有自動(dòng)控制系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制,操作簡(jiǎn)便。
(2)有防止輥套和磨盤襯板直接接觸的限位裝置,避免破壞性沖擊和劇烈震動(dòng)。
(3)借助于翻輥裝置,可將磨輥翻出磨外,輥套及襯板在短時(shí)間就能更換和檢修。

4.烘干效率高 
立式輥磨機(jī)采用熱風(fēng)輸送物料,在粉磨水分較大的物料時(shí)可控制進(jìn)風(fēng)溫度,使產(chǎn)品達(dá)到要求的最終水分。在立式輥磨內(nèi)可烘干入磨水分高達(dá)15%的物料,應(yīng)用范圍廣。即使是烘干球磨,也只能烘干水分為3%-4%的物料。

5.產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定
物料在輥磨內(nèi)停留的時(shí)間僅2-3分鐘,而在球磨機(jī)內(nèi)則要15-20分鐘。所以立式輥磨產(chǎn)品化學(xué)成分及細(xì)度可以很快測(cè)定、校正,而且質(zhì)量穩(wěn)定。

LYLM1200立磨技術(shù)參數(shù)

測(cè)  定  項(xiàng)  目 重  質(zhì)  超  微  細(xì)  碳  酸  鈣
每小時(shí)產(chǎn)量 10.0~12.0 7.5~9.5 7.0~8.0 5.0~6.0 3.0~4.0
比表面積 cm2/g 11000±500 14000±500 15500±500 17000±500 19000±1000
325目殘余量 % 0.015 0.015 0.01 0.002 0
小于2um含量 % 32 38 42 50 60
平均粒徑:D50 um 4.5 3.2 2.4 2.0 1.4
市場(chǎng)統(tǒng)稱 600 800 1000 1500 2000
粒徑分布:D97 um 23 20 16 12 9
粒徑切割點(diǎn) um 49 42 35 28 18
水份 % 0.4以下 0.4以下 0.4以下 0.4以下 0.4以下
能耗 KW/Ton 38~40 40~50 54~56 65~72 110~125
測(cè)試方法 1、粒徑分布:以英國(guó)MALVERN公司的Micro雷射繞線射粒徑分析儀測(cè)定。
2、比表面積:平均粒徑轉(zhuǎn)換,單位為1g粉末的相對(duì)面積。
3、平均粒徑:粒徑分布求得粒徑中間值。
4、325目殘余:以濕式法將1000g的試樣放在325目篩網(wǎng)過(guò)濾,計(jì)算百分比。
5、水份:放5g樣品于水分分析儀測(cè)定,在攝氏150℃下6分鐘,測(cè)量檢定。
6、研磨原料:石灰石、方解石、白云石、滑石、重晶石、硅灰石、水鎂石、氫氧化鈣、石膏、焦煤、爐渣、磷酸鹽等礦物。

 

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